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(서울=NSP통신) 박천숙 기자 = 테스(095610)는 대면적 기판처리 장치에 대한 특허권을 취득했다고 9일 공시했다.

특허 주요내용은 대면적 PECVD 장비에 적용되는 기술.

테스는 “반응가스를 분사 처리하는 디퓨져와 샤워 헤드를 일대일로 대응해 반응가스를 균일하게 분사할 수 있으며 샤워 헤드들의 열팽창 비율을 감소시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다”고 밝혔다.

NSP통신/NSP TV 박천숙 기자, icheonsuk@nspna.com
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