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(DIP통신) 류수운 기자 = 인텔이 에너지 소모량을 절감할 수 있는 더 작고 빠른 칩 개발을 위해 역대 최대 규모의 설비투자에 나선다.

인텔(회장겸 CEO 폴 오텔리니)은 11일 32나노(32억분의 1미터/100만분의 1인치) 공정을 위해 미국 내 고급 제조 설비 건설 비용으로 향후 2년 간 70억 달러를 투자할 계획이라고 발표했다.

인텔의 이번 투자는 美 오레곤과 아리조나, 뉴멕시코의 기존 제조 설비에 이루어짐으로써 이 지역에서 고임금과 고도의 기술을 요하는 일자리 7000여 개를 창출해낼 것으로 기대되고 있다.

오텔리니 회장은 “인텔은 미국내 투자를 통해 자사와 국가 전체가 기술 혁신의 선두를 유지할 수 있도록 하고 있다”며 “이 제조 설비들은 지구 상 최고의 컴퓨팅 기술을 생산하게 될 것”이라고 말했다.

그는 또 “이곳에서 생산되는 칩들은 디지털 세계의 기초적인 구성 요소 역할을 하는 동시에 해당 산업을 훨씬 넘어서는 경제적 이익을 가져다 줄 것”이라고 덧붙였다.

인텔의 제조 공정에 사용되는 기술은 매우 작은 원자 수준의 구조로 칩 회로를 32나노로 구성한다.

이 기술을 이용해 생산되는 최초의 인텔 프로세서는 코드명 ‘웨스트미어(Westmere)’로 데스크톱과 모바일 메인스트림 시스템에 먼저 사용될 예정이다.

웨스트미어는 인텔의 최신 고성능 마이크로아키텍처(네할렘)와 프로세서에 통합된 그래픽 성능을 결합시켜 컴퓨터 제조업체들에게 성능향상 및 제조시스템의 간소화를 이루도록 지원한다.

인텔은 32나노 제조 및 생산력을 바탕으로 올해 웨스트미어의 생산 가속화에 나서는 한편 내년에는 다른 32나노 제품들도 추가적으로 발표할 계획이다.

인텔은 현재 해외 매출이 전체의 75% 이상을 차지하는 반면, 미국 내에서 4만5000명 이상의 직원을 고용, 자사 반도체의 75% 가량을 생산하고 있다.

또한 연구개발비 및 설비 투자 역시 미국 내에서 약 75%를 진행하고 있다.

DIP통신, swryu64@dipts.com
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